Fujifilm predstavuje objektív FUJINON XF16mm F1,4 R WR

Spoločnosť FUJIFILM (prezident Shigehiro Nakajima) s hrdosťou oznamuje, že v polovici mája 2015 sa ponuka výmenných objektívov z radu X rozšíri o nový model FUJINON XF16 mm F1,4 R WR.

Objektív ponúka pevnú ohniskovú vzdialenosť 16 mm - ekvivalent formátu 35 mm: 24 mm. Minimálna clona F1,4 zaručuje vysokú kvalitu obrazu aj pri slabom osvetlení a atraktívny efekt bokeh na makro fotografiách, ktoré môžeme vyhotoviť z minimálnej vzdialenosti 15 cm. Rýchly autofokus, konštrukcia odolná voči poveternostným podmienkam, prachu a mrazu do -10°C a kompaktné rozmery, to všetko sú výhody, ktoré dávajú široké spektrum možností fotografovania.
Model XF16 mm F1,4 R WR dopĺňa štvoricu populárnych svetelných objektívov FUJINON s min. clonou F1,4: XF 23 mm F1,4 R, XF 35 mm F1,4 R, XF 56 mm F1,2 R a XF 56 mm F1,2 R APD.

1. Hlavné črty

(1) Vysoká kvalita obrazu vďaka konštrukcii skladajúcej sa z 13 členov v 11 skupinách s vrstvou Nano GI

Optika sa skladá okrem iného aj z dvoch asférických šošoviek a dvoch šošoviek z ED skla (s výnimočne malou disperziou), ktoré obmedzujú sférickú a chromatickú aberáciu a zaručujú tak vysokú kvalitu a ostrosť obrazu aj pri najviac otvorenej clone F1,4. Fotografie vyzerajú ešte lepšie vďaka ochrannej vrstve Fujifilm HT-EBC nanesenej na všetky povrchy šošoviek a vrstve Nano GI použitej na zadnom povrchu šošovky. Tieto vrstvy menia index lomu svetla medzi sklom a vzduchom, čo umožňuje obmedziť vznik odrazov a rozptylu svetla pri šikmo dopadajúcim svetle.

(2) Minimálna fotografická vzdialenosť 15 cm

Zmenšenie vzdialenosti od objektu dáva lepší efekt bokeh a dynamickejšiu perspektívu, takže fotograf má viac tvorivých možností v širokouhlej fotografii. Vysoká kvalita obrazu v celom rozsahu zaostrenia je výsledkom korekcie aberácií rôzneho druhu, taktiež pri minimálnej pracovnej vzdialenosti 15 cm, a tiež použitia systému vnútorného zaostrovania s voľným mechanizmom, v ktorom vzájomne spolupracujú dve zaostrovacie skupiny, ktoré sa prispôsobujú aktuálnej pracovnej vzdialenosti.

(3) Pohotový autofokus pripravený za 0,11 s*¹

Systém zadného zaostrovania urýchľuje prácu autofokusu. Autofokus je pripravený za púhych 0,11 s, takže sa objektív ideálne osvedčí v street a portrétnej fotografii.
*¹ Údaje spoločnosti Fujifilm z 16. apríla 2015, získané v súlade s pokynmi CIPA (Camera & Imaging Products Association) v režime vysokého výkonu s použitím interných meracích metód.

(4) Zaostrovací prstenec so stupnicou hĺbky ostrosti

Zaostrovací prstenec je vybavený stupnicou hĺbky ostrosti, čo je veľmi užitočné najmä v street fotografii. Úprava nastavenia clony podľa vypočítanej vzdialenosti umožňuje spontánne fotografovanie.

(5) Odolnosť voči poveternostným podmienkam, prachu a mrazu

Konštrukcia odolná voči poveternostným podmienkam má 9 tesnení na 8 miestach na tele. Vďaka tomuto utesneniu možno objektív používať bez obáv pred zmoknutím v daždi, ušpinením prachom alebo postriekaním vodou. XF16 mm F1,4 R WR naviac vyrovnáva teplotné rozdiely medzi vonkajšími a vnútornými súčasťami, čo minimalizuje ich vplyv na optiku a elektroniku. Vydrží mráz do -10°C.

(6) Ľahký a kompaktný

Objektív váži cca 375g, teda približne o 40% menej ako jeho ekvivalent používaný v digitálnych zrkadlovkách. Táto skutočnosť určite poteší fotografov, ktorí hľadajú univerzálny objektív ponúkajúci maximálnu optickú kvalitu v kompaktných rozmeroch.

(7) Príslušenstvo, kryt objektívu LH-X16 (*sa predáva zvlášť)

Starostlivosť o maximálnu kvalitu je badať tiež v precíznej povrchovej úprave kovového krytu objektívu.
* Bude dostupný od septembra 2015.